三星電子宣布,已成功開發出其首款采用12納米(nm)級工藝技術打造的16 Gb DDR5 DRAM,并與AMD一起完成了兼容性方面的產品評估。
這一技術突破是通過使用一種新的高介電(high-k)材料來增加電池電容,以及改進關鍵電路特性的專利設計技術而實現的。結合先進的多層極紫外(EUV)光刻技術,新款DRAM擁有三星最高的DDR5 Die密度(Die density),可使晶圓生產率提高20%?;贒DR5最新標準,三星12nm級DRAM將解鎖高達7.2千兆每秒(Gbps)的速度,這意味著一秒鐘內處理兩部30GB的超高清(UHD)電影。新款DRAM同時擁有卓越的速度與更高的能效。與上一代三星DRAM產品相比,12nm級DRAM的功耗降低約23%。(美通社,2022年12月21日深圳)